ASTM F673-2002 用无触点涡流计测量半导体单片电阻率或半导体薄膜电阻率的标准试验方法

作者:标准资料网时间:2024-05-19 14:51:15 浏览:9348 来源:标准资料网

【英文标准名称】:StandardTestMethodsforMeasuringResistivityofSemiconductorSlicesorSheetResistanceofSemiconductorFilmswithaNoncontactEddy-CurrentGage
【原文标准名称】:用无触点涡流计测量半导体单片电阻率或半导体薄膜电阻率的标准试验方法
【标准号】:ASTMF673-2002
【标准状态】:作废
【国别】:
【发布日期】:2002
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.06
【标准类型】:(TestMethod)
【标准水平】:()
【中文主题词】:电子工程;电阻器;试验;半导体器件;测量;层;影片;涡流试验;垫圈;半导体
【英文主题词】:contactlessmeasurements;eddycurrent;nondestructiveevaluation;resistivity;semiconductor;sheet;resistance;silicon;thinfilms;wafer
【摘要】:ThisstandardwastransferredtoSEMI(www.semi.org)May20031.1Thesetestmethodscoverthenondestructivemeasurementofbulkresistivityofsiliconandcertaingallium-arsenideslicesandofthesheetresistanceofthinfilmsofsiliconorg
【中国标准分类号】:H80
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:6P.;A4
【正文语种】:

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